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晶圆制造

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• 洞察毫微：半导体晶圆缺陷检测设备核心光学系统的创新革命

  📅 2026-04-12
  本文深入探讨了半导体晶圆缺陷检测设备中核心光学系统技术的发展脉络与前沿趋势。文章分析了从传统明暗场成像到计算光学的技术演进，阐述了高分辨率成像、高速数据处理及智能化算法融合如何驱动检测精度与效率的飞跃。同时，展望了该领域在面向更先进制程时所面临的挑战与创新机遇，为相关实验室设备与实验仪器的技术选型及